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              碳化硅HMDS烘箱,SiC襯底HMDS烤箱 工業烘箱

              碳化硅HMDS烘箱,SiC襯底HMDS烤箱 工業烘箱

              簡要描述:

              碳化硅HMDS烘箱,SiC襯底HMDS烤箱將HMDS氣相沉積至半導體制造中氮化鎵(GaN)和、碳化硅(SiC)、硅片、砷化鎵等材料表面后,經系統加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯劑的作用

              碳化硅HMDS烘箱的背景

                 碳化硅作為第三代半導體材料的典型代表,也是目前晶體生產技術和器件制造水平成熟,應用廣泛的寬禁帶半導體材料之一,目前已經形成了全球的材料、器件和應用產業鏈。

                 碳化硅(SiC)是由硅(Si)和碳(C)組成的化合物半導體材料。其結合力非常強,在熱、化學、機械方面都非常穩定。SiC存在各種多型體(多晶型體),它們的物理特性值各有不同。

              碳化硅HMDS烘箱,SiC襯底HMDS烤箱的作用

                HMDS烘箱將HMDS氣相沉積至半導體制造中氮化鎵(GaN)和、碳化硅(SiC)、硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后,經系統加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯劑的作用。

              碳化硅HMDS烘箱,SiC襯底HMDS烤箱主要性能:

              空間(mm):300*300*300

                     450*450*450

                     600*600*600,可定制

              適用產品:兼容1-12寸晶圓及碎片

              溫度范圍:RT+10-250℃

              溫度穩定度:≤±0.5℃

              真空度:≤133pa(1torr)

              材質:316L不銹鋼+冷軋板噴塑

              HMDS系統:密閉設計,自動開啟,數據可設定

              液位計:低液位報警

              儲液瓶:HMDS儲液量1000ml 

              真空泵:無油渦旋真空泵

              運行時間:20Min

              計量單位:S/Pa

              運行方式:自動運行

              進氣:N2

              排氣:有機排放

              電源:220V、50-60HZ

              功率:2800W



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              上海雋思實驗儀器有限公司主要經營優質的碳化硅HMDS烘箱,SiC襯底HMDS烤箱 工業烘箱等,歡迎來電咨詢碳化硅HMDS烘箱,SiC襯底HMDS烤箱 工業烘箱詳細資料等信息
              地址:上海奉賢柘林工業區3213號
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