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              HMDS烤箱的主要功能及特點

              更新時間:2022-12-26   點擊次數:471次
                 HMDS烤箱通過對烘箱HMDS預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。
                
                在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節,涂膠質量直接影響到光刻的質量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉移的失敗,同時濕法腐蝕容易發生側向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。
                
                HMDS烤箱主要功能:
                將HMDS涂到樣品表面后,經烘箱加溫可生成硅氧烷為主的化合物,將樣品表面由親水性變為疏水性,此疏水性能夠很好的與光刻膠結合,增加了樣品表面與光刻膠的粘附作用。
                
                性能特點:
                1、機外殼采用不銹鋼SUS304材質制造,內膽為不銹鋼316L材料制成;加熱器均勻分布在內膽外壁四周,內膽內無任何電氣配件及易燃易爆裝置。鋼化、防dan雙層玻璃門觀察工作室內物體一目了然。
                2、箱門閉合松緊能調節,整體成型的硅橡膠門封圈,確保箱內高真空度。
                3、微電腦智能控溫儀,具有設定,測定溫度雙數字顯示和PID自整定功能,控溫精確,可靠。
                4、智能化觸摸屏控制系統配套日本三菱PLC模塊可供用戶根據不同制程條件改變程序,溫度,真空度及每一程序時間。
                5、HMDS氣體密閉式自動吸取添加設計,真空箱密封性能佳,確保HMDS氣體無外漏顧慮。
                6、整個系統采用優質材料制造,無發塵材料,適用100級光刻間凈化環境。

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