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              氮氣烘箱,百級潔凈烘箱在光刻軟烘烤工藝注意事項有哪些?

              更新時間:2023-10-07   點擊次數:182次

              光刻加工中涂布后,所得的抗蝕劑膜將包含20-40%重量的溶劑。后涂覆烘烤工藝,也稱為軟烘烤或預烘烤,涉及在旋涂之后通過除去該過量溶劑來干燥光致抗蝕劑。減少溶劑含量的主要原因是使抗蝕劑膜穩定。

                  在室溫下,光刻加工未烘烤的光致抗蝕劑膜將通過蒸發而損失溶劑,從而隨時間改變膜的性能。通過烘烤抗蝕劑,去除了大部分溶劑,并且該膜在室溫下變得穩定。從光致抗蝕劑膜上去除溶劑有四個主要效果:(1)減小膜的厚度;(2)曝光后烘烤并改變顯影性能;(3)改善粘合性;(4)膜的粘性降低因此不易受到微粒污染的影響。

              氮氣烘箱,百級潔凈烘箱用途:

                  潔凈烘箱,百級無塵烘箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤;也適用于IC封裝、光刻膠固化、銀膠固化、電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫藥、實驗室等生產及科研部門;也可用于非揮發性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。

              氮氣烘箱,百級潔凈烘箱技術參數:

              無塵等級:Class100;     

              溫度范圍:RT~200/450℃;      

              工作尺寸(mm):

              450×450×450

              500×500×500

              600×700×800(可定制)        

              氮氣烘箱,百級潔凈烘箱可擴展功能:

              氧濃度檢測,無塵無氧烘箱

              真空無氧烘箱

              智能聯網功能,MES等工業自動化軟件

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